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沉积温度对Gd掺杂CeO2电解质薄膜生长及电学特性的影响
马小叶; 姜雪宁; 孟宪芹; 庞胜利; 孟昕; 张庆瑜
刊名无机材料学报
2008
卷号23页码:912-916
关键词Gd掺杂CeO2电解质薄膜 反应磁控溅射 薄膜生长 电学特性
ISSN号1000-324X
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内容类型期刊论文
URI标识http://www.corc.org.cn/handle/1471x/5608070
专题大连理工大学
作者单位大连理工大学三束材料改性国家重点实验室,大连,116024
推荐引用方式
GB/T 7714
马小叶,姜雪宁,孟宪芹,等. 沉积温度对Gd掺杂CeO2电解质薄膜生长及电学特性的影响[J]. 无机材料学报,2008,23:912-916.
APA 马小叶,姜雪宁,孟宪芹,庞胜利,孟昕,&张庆瑜.(2008).沉积温度对Gd掺杂CeO2电解质薄膜生长及电学特性的影响.无机材料学报,23,912-916.
MLA 马小叶,et al."沉积温度对Gd掺杂CeO2电解质薄膜生长及电学特性的影响".无机材料学报 23(2008):912-916.
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