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	The influence of the AIN film texture on the wet chemical etching
	Chen, Da; Wang, Jingjing; Xu, Dong; Zhang, Yafei
刊名	MICROELECTRONICS JOURNAL
	2009
卷号	40期号:1页码:15-19
关键词	Aluminum nitride Film texture Wet chemical etching Anisotropy
DOI	10.1016/j.mejo.2008.09.001
URL标识	查看原文
内容类型	期刊论文
URI标识	http://www.corc.org.cn/handle/1471x/5525418
专题	山东大学
作者单位	Shanghai Jiao Tong Univ, Minist Educ, Key Lab Thin Film & Microfabricat, Natl Key Lab Nanomicro Fabricat Technol,In
推荐引用方式 GB/T 7714	Chen, Da,Wang, Jingjing,Xu, Dong,et al. The influence of the AIN film texture on the wet chemical etching[J]. MICROELECTRONICS JOURNAL,2009,40(1):15-19.
APA	Chen, Da,Wang, Jingjing,Xu, Dong,&Zhang, Yafei.(2009).The influence of the AIN film texture on the wet chemical etching.MICROELECTRONICS JOURNAL,40(1),15-19.
MLA	Chen, Da,et al."The influence of the AIN film texture on the wet chemical etching".MICROELECTRONICS JOURNAL 40.1(2009):15-19.

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