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薄膜厚度对直流溅射制备AZO薄膜的特性影响
张平; 王连杰; 杨斌; 宋淑梅; 杨田林
刊名光电子技术
2009
卷号29期号:4页码:261-264
关键词直流磁控溅射 薄膜厚度 光电特性 禁带宽度
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内容类型期刊论文
URI标识http://www.corc.org.cn/handle/1471x/5519824
专题山东大学
作者单位1.山东大学威海分校,空间科学与物理学院, 威海, 山东 264209, 中国.
2.山东大学威海分校,空间科学与物理学院, 威海, 山东 264209, 中国.
3.山东
推荐引用方式
GB/T 7714
张平,王连杰,杨斌,等. 薄膜厚度对直流溅射制备AZO薄膜的特性影响[J]. 光电子技术,2009,29(4):261-264.
APA 张平,王连杰,杨斌,宋淑梅,&杨田林.(2009).薄膜厚度对直流溅射制备AZO薄膜的特性影响.光电子技术,29(4),261-264.
MLA 张平,et al."薄膜厚度对直流溅射制备AZO薄膜的特性影响".光电子技术 29.4(2009):261-264.
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