薄膜厚度对直流溅射制备AZO薄膜的特性影响 | |
张平; 王连杰; 杨斌; 宋淑梅; 杨田林 | |
刊名 | 光电子技术
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2009 | |
卷号 | 29期号:4页码:261-264 |
关键词 | 直流磁控溅射 薄膜厚度 光电特性 禁带宽度 |
URL标识 | 查看原文 |
内容类型 | 期刊论文 |
URI标识 | http://www.corc.org.cn/handle/1471x/5519824 |
专题 | 山东大学 |
作者单位 | 1.山东大学威海分校,空间科学与物理学院, 威海, 山东 264209, 中国. 2.山东大学威海分校,空间科学与物理学院, 威海, 山东 264209, 中国. 3.山东 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 张平,王连杰,杨斌,等. 薄膜厚度对直流溅射制备AZO薄膜的特性影响[J]. 光电子技术,2009,29(4):261-264. |
APA | 张平,王连杰,杨斌,宋淑梅,&杨田林.(2009).薄膜厚度对直流溅射制备AZO薄膜的特性影响.光电子技术,29(4),261-264. |
MLA | 张平,et al."薄膜厚度对直流溅射制备AZO薄膜的特性影响".光电子技术 29.4(2009):261-264. |
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