| 快速退火对直流磁控溅射法制备的 AZO薄膜性能的影响 | |
| 姜丽莉; 辛艳青; 宋淑梅; 杨田林; 李延辉; 韩圣浩 | |
| 刊名 | 真空科学与技术学报
 |
| 2010 | |
| 卷号 | 30期号:3页码:302-305 |
| 关键词 | 快速退火 直流磁控溅射 AZO薄膜 光电特性 禁带宽度 |
| DOI | 10.3969/j.issn.1672-7126.2010.03.18 |
| URL标识 | 查看原文 |
| 内容类型 | 期刊论文 |
| URI标识 | http://www.corc.org.cn/handle/1471x/5493370 |
| 专题 | 山东大学 |
| 作者单位 | 1.山东大学威海分校空间科学与物理学院, 威海, 山东 264209, 中国. 2.山东大学威海分校空间科学与物理学院, 威海, 山东 264209, 中国. 3.山 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 姜丽莉,辛艳青,宋淑梅,等. 快速退火对直流磁控溅射法制备的 AZO薄膜性能的影响[J]. 真空科学与技术学报,2010,30(3):302-305. |
| APA | 姜丽莉,辛艳青,宋淑梅,杨田林,李延辉,&韩圣浩.(2010).快速退火对直流磁控溅射法制备的 AZO薄膜性能的影响.真空科学与技术学报,30(3),302-305. |
| MLA | 姜丽莉,et al."快速退火对直流磁控溅射法制备的 AZO薄膜性能的影响".真空科学与技术学报 30.3(2010):302-305. |
| 个性服务 |
| 查看访问统计 |
| 相关权益政策 |
| 暂无数据 |
| 收藏/分享 |
除非特别说明，本系统中所有内容都受版权保护，并保留所有权利。
修改评论