退火温度对La_3Ga_5SiO_(14)薄膜结构及表面形貌的影响 | |
张雯; 王继扬; 季振国; 李红霞; 娄垚 | |
刊名 | 人工晶体学报
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2010 | |
卷号 | 39期号:3页码:588-592 |
关键词 | La_3Ga_5SiO_(14)薄膜 脉冲激光沉积 退火温度 微观结构 |
URL标识 | 查看原文 |
内容类型 | 期刊论文 |
URI标识 | http://www.corc.org.cn/handle/1471x/5486572 |
专题 | 山东大学 |
作者单位 | 1.山东大学, 晶体材料国家重点实验室, 济南, 山东 250100, 中国. 2.山东大学, 晶体材料国家重点实验室, 济南, 山东 250100, 中国. 3.杭州电子 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 张雯,王继扬,季振国,等. 退火温度对La_3Ga_5SiO_(14)薄膜结构及表面形貌的影响[J]. 人工晶体学报,2010,39(3):588-592. |
APA | 张雯,王继扬,季振国,李红霞,&娄垚.(2010).退火温度对La_3Ga_5SiO_(14)薄膜结构及表面形貌的影响.人工晶体学报,39(3),588-592. |
MLA | 张雯,et al."退火温度对La_3Ga_5SiO_(14)薄膜结构及表面形貌的影响".人工晶体学报 39.3(2010):588-592. |
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