SiC单晶片研磨材料去除率研究 | |
袁启龙; 付慧; 李淑娟; 姜陶然; 杨明顺 | |
刊名 | 机械科学与技术 |
2018 | |
卷号 | 第12期页码:1969-1974 |
关键词 | SiC单晶片 研磨 磨粒 材料去除率 |
ISSN号 | 1003-8728 |
URL标识 | 查看原文 |
公开日期 | [db:dc_date_available] |
内容类型 | 期刊论文 |
URI标识 | http://www.corc.org.cn/handle/1471x/5455163 |
专题 | 湖南大学 |
作者单位 | 西安理工大学机械与精密仪器工程学院 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 袁启龙,付慧,李淑娟,等. SiC单晶片研磨材料去除率研究[J]. 机械科学与技术,2018,第12期:1969-1974. |
APA | 袁启龙,付慧,李淑娟,姜陶然,&杨明顺.(2018).SiC单晶片研磨材料去除率研究.机械科学与技术,第12期,1969-1974. |
MLA | 袁启龙,et al."SiC单晶片研磨材料去除率研究".机械科学与技术 第12期(2018):1969-1974. |
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