| NiFeSiMnMo/Cu/NiFeSiMnMo多层膜结构中磁性层厚度对巨磁阻抗效应的影响 | |
| 孙智勇; 赵志明; 郑鹉; 王艾玲; 姜宏伟 | |
| 2007 | |
| 卷号 | 14页码:15-18 |
| 关键词 | 巨磁阻抗 坡莫合金 多层膜 |
| ISSN号 | 1005-8192 |
| DOI | 10.3969/j.issn.1005-8192.2007.03.004 |
| URL标识 | 查看原文 |
| 内容类型 | 期刊论文 |
| URI标识 | http://www.corc.org.cn/handle/1471x/5431302 |
| 专题 | 西安理工大学 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 孙智勇,赵志明,郑鹉,等. NiFeSiMnMo/Cu/NiFeSiMnMo多层膜结构中磁性层厚度对巨磁阻抗效应的影响[J],2007,14:15-18. |
| APA | 孙智勇,赵志明,郑鹉,王艾玲,&姜宏伟.(2007).NiFeSiMnMo/Cu/NiFeSiMnMo多层膜结构中磁性层厚度对巨磁阻抗效应的影响.,14,15-18. |
| MLA | 孙智勇,et al."NiFeSiMnMo/Cu/NiFeSiMnMo多层膜结构中磁性层厚度对巨磁阻抗效应的影响".14(2007):15-18. |
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