CORC  > 江苏大学
垂直转盘式MOCVD反应器进口温度对GaN生长的影响
Zuo, Ran[1]; Wang, Zong-Qi[2]; Chen, Peng[3]
刊名人工晶体学报
2015
卷号44期号:10页码:2778-2785
关键词MOCVD 进口温度 GaN 数值模拟
ISSN号1000-985X
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收录类别EI ; 中文核心期刊要目总览中国科技核心期刊CSCD
内容类型期刊论文
URI标识http://www.corc.org.cn/handle/1471x/5385369
专题江苏大学
作者单位[1]School of Energy and Power Engineering, Jiangsu University, Zhenjiang, China [2]School of Energy and Power Engineering, Jiangsu University, Zhenjiang, China [3]School of Electronic Science and Engineering, Nanjing University, Nanjing, China
推荐引用方式
GB/T 7714
Zuo, Ran[1],Wang, Zong-Qi[2],Chen, Peng[3]. 垂直转盘式MOCVD反应器进口温度对GaN生长的影响[J]. 人工晶体学报,2015,44(10):2778-2785.
APA Zuo, Ran[1],Wang, Zong-Qi[2],&Chen, Peng[3].(2015).垂直转盘式MOCVD反应器进口温度对GaN生长的影响.人工晶体学报,44(10),2778-2785.
MLA Zuo, Ran[1],et al."垂直转盘式MOCVD反应器进口温度对GaN生长的影响".人工晶体学报 44.10(2015):2778-2785.
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