用於近場記錄與再生之光學頭及其製造方法 | |
鄭永民; 李定觀 | |
2002-12-21 | |
著作权人 | 三星電子股份有限公司 |
专利号 | TW514905B |
国家 | 中国台湾 |
文献子类 | 授权发明 |
其他题名 | 用於近場記錄與再生之光學頭及其製造方法 |
英文摘要 | 茲提供一種用於近場記錄與再生之光學頭,及此種光學頭之製造方法,其中在一滑塊上形成一垂直腔面放射雷射(VCSEL)及一光電檢測器,並以薄膜沉澱法在VCSEL及光電檢測器上直接形成一透鏡層、一光徑控制層及/或一線圈構件,由於用於記錄/再生資訊的光學系統與滑塊結合,所以使光學頭變小,而與採用彼此分離之滑塊與大尺寸光學系統的習式光學頭不同;因此,本光學頭之動態特徵獲得改進,減少搜尋目標磁軌所需的時間,而且使本光學頭適於微型資訊記錄與再生系統。 |
公开日期 | 2002-12-21 |
申请日期 | 2001-01-15 |
状态 | 失效 |
内容类型 | 专利 |
源URL | [http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/41258] ![]() |
专题 | 半导体激光器专利数据库 |
作者单位 | 三星電子股份有限公司 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 鄭永民,李定觀. 用於近場記錄與再生之光學頭及其製造方法. TW514905B. 2002-12-21. |
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