一种制备氮化镓基半导体激光器的P型电极的方法
李睿; 胡晓东; 徐科; 代涛; 陈伟华; 胡成余; 包魁; 王彦杰; 张国义
2010-06-09
著作权人北京大学东莞光电研究院
专利号CN101383480B
国家中国
文献子类授权发明
其他题名一种制备氮化镓基半导体激光器的P型电极的方法
英文摘要本发明提供了一种制备氮化镓基半导体激光器P型电极的方法,属于半导体激光器器件制备技术领域。该方法包括:在完成整个氮化镓基半导体激光器结构刻蚀后,P型和N型电极蒸镀前,将氮化镓基半导体激光器放入酸溶液中进行表面预处理;优化PECVD条件生长钝化层包裹整个激光器;在钝化层表面甩涂光刻胶,光刻P型电极窗口,并随后坚膜;采用湿法腐蚀或干法刻蚀加湿法腐蚀去除窗口区暴露的钝化层,然后保留原有光刻胶,烘干后直接电子束蒸镀P型Ni/Au电极;进行剥离,完成整个P型电极工艺。本发明尽可能地消除工艺流程中的不利因素对器件性能造成的影响,有效的提高了工艺可靠性及器件性能。
公开日期2010-06-09
申请日期2007-09-07
状态授权
内容类型专利
源URL[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/40902]  
专题半导体激光器专利数据库
作者单位北京大学东莞光电研究院
推荐引用方式
GB/T 7714
李睿,胡晓东,徐科,等. 一种制备氮化镓基半导体激光器的P型电极的方法. CN101383480B. 2010-06-09.
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