一种GaAs基HBT垂直腔面发射激光器 | |
王智勇; 高鹏坤; 王青; 郑建华 | |
2018-05-08 | |
著作权人 | 北京工业大学 |
专利号 | CN104752952B |
国家 | 中国 |
文献子类 | 授权发明 |
其他题名 | 一种GaAs基HBT垂直腔面发射激光器 |
英文摘要 | 一种GaAs基HBT垂直腔面发射激光器,该激光器由GaAs基HBT和VCSEL两部分组成,所述GaAs基HBT由在GaAs衬底上依次分子束外延生长的第一GaAs缓冲层、GaAs集电区、第一GaAs非掺杂间隔层、GaAs P+型掺杂基区、第二GaAs非掺杂间隔层、In0.49Ga0.51P发射区、第一GaAs帽层构成;所述VCSEL由在腐蚀截止层InGaP上依次分子束外延生长的第二GaAs缓冲层、34.5对λ0/4光学厚度的Al0.9Ga0.1As/Al0.2Ga0.8As N型下分布布拉格反射镜层、Al0.2Ga0.8As/GaAs有源层、3对λ0/4光学厚度的Al0.9Ga0.1As/Al0.2Ga0.8As P型分布布拉格反射镜层、Al0.98Ga0.02As氧化限制层、25对λ0/4光学厚度的Al0.9Ga0.1As/Al0.2Ga0.8As P型上分布布拉格反射镜层、第二GaAs帽层。 |
公开日期 | 2018-05-08 |
申请日期 | 2015-03-11 |
状态 | 授权 |
内容类型 | 专利 |
源URL | [http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/40798] ![]() |
专题 | 半导体激光器专利数据库 |
作者单位 | 北京工业大学 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 王智勇,高鹏坤,王青,等. 一种GaAs基HBT垂直腔面发射激光器. CN104752952B. 2018-05-08. |
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