一种GaAs基HBT垂直腔面发射激光器
王智勇; 高鹏坤; 王青; 郑建华
2018-05-08
著作权人北京工业大学
专利号CN104752952B
国家中国
文献子类授权发明
其他题名一种GaAs基HBT垂直腔面发射激光器
英文摘要一种GaAs基HBT垂直腔面发射激光器,该激光器由GaAs基HBT和VCSEL两部分组成,所述GaAs基HBT由在GaAs衬底上依次分子束外延生长的第一GaAs缓冲层、GaAs集电区、第一GaAs非掺杂间隔层、GaAs P+型掺杂基区、第二GaAs非掺杂间隔层、In0.49Ga0.51P发射区、第一GaAs帽层构成;所述VCSEL由在腐蚀截止层InGaP上依次分子束外延生长的第二GaAs缓冲层、34.5对λ0/4光学厚度的Al0.9Ga0.1As/Al0.2Ga0.8As N型下分布布拉格反射镜层、Al0.2Ga0.8As/GaAs有源层、3对λ0/4光学厚度的Al0.9Ga0.1As/Al0.2Ga0.8As P型分布布拉格反射镜层、Al0.98Ga0.02As氧化限制层、25对λ0/4光学厚度的Al0.9Ga0.1As/Al0.2Ga0.8As P型上分布布拉格反射镜层、第二GaAs帽层。
公开日期2018-05-08
申请日期2015-03-11
状态授权
内容类型专利
源URL[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/40798]  
专题半导体激光器专利数据库
作者单位北京工业大学
推荐引用方式
GB/T 7714
王智勇,高鹏坤,王青,等. 一种GaAs基HBT垂直腔面发射激光器. CN104752952B. 2018-05-08.
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