激光勘查装置

	激光勘查装置
	李阳; 杨洋
	2018-03-13
著作权人	李阳
专利号	CN104020109B
国家	中国
文献子类	授权发明
其他题名	激光勘查装置
英文摘要	本发明提供了一种激光勘查装置，发射用于现场勘查的光束，包括：多个半导体激光单元，以阵列方式设置在底座上；汇聚反射镜，设置在半导体激光单元阵列上方以反射多个半导体激光单元发射的激光汇聚到出光口以形成出射光束；和调焦透镜部件，设置在出光口，调焦透镜部件用于对出射光束进行调节。本发明的激光勘查装置在勘探过程中不会破坏痕迹。
公开日期	2018-03-13
申请日期	2014-05-16
状态	授权
内容类型	专利
源URL	[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/40531]
专题	半导体激光器专利数据库
作者单位	李阳
推荐引用方式 GB/T 7714	李阳,杨洋. 激光勘查装置. CN104020109B. 2018-03-13.