| 一种大面积TFT光刻装置 | |
| 周金运; 王新星; 雷亮; 林清华; 裴文彦 | |
| 2012-07-04 | |
| 著作权人 | 广东高聚激光有限公司 |
| 专利号 | CN202306140U |
| 国家 | 中国 |
| 文献子类 | 实用新型 |
| 其他题名 | 一种大面积TFT光刻装置 |
| 英文摘要 | 本实用新型属于激光微加工应用的光刻技术领域，涉及一种大面积TFT光刻装置，本实用新型大面积TFT光刻装置包括准分子激光光源，照明光学系统，投影光学系统、光刻对位系统和扫描工作台。准分子激光光源能应用于市场上主流的光刻胶的曝光；照明光学系统将激光扩束、准直并且均匀化；投影光学系统将掩膜的图形通过扫描方式转移成像到基板上；光刻对位系统对TFT套刻图形进行对准以保证曝光时的正确相对位置；扫描工作台被控二维顺序移动使掩膜图形由固定的光学系统以单位扫描的方式同步转移到基板上。本实用新型可实现大面积、高均匀度和高分辨率的TFT的光刻，能满足工业生产高效率的需要，本激光光刻装置结构简单和造价低，具有方便实用和经济实惠的特点。 |
| 公开日期 | 2012-07-04 |
| 申请日期 | 2011-10-19 |
| 状态 | 失效 |
| 内容类型 | 专利 |
| 源URL | [http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/39337]  |
| 专题 | 半导体激光器专利数据库 |
| 作者单位 | 广东高聚激光有限公司 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 周金运,王新星,雷亮,等. 一种大面积TFT光刻装置. CN202306140U. 2012-07-04. |
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