半导体激光元件
三好隆
2019-06-07
著作权人日亚化学工业株式会社
专利号CN103855604B
国家中国
文献子类授权发明
其他题名半导体激光元件
英文摘要本发明提供一种半导体激光元件,能够在使用了由氮化物半导体构成的基板的半导体激光元件中良好地限制光来降低FFP的脉动。半导体激光元件在由GaN构成的基板之上具有由氮化物半导体构成且折射率高于基板的发光层,在基板与发光层之间从基板的一侧起依次具有:由AlGaN构成的第一氮化物半导体层;由Al组成比大于第一氮化物半导体层的AlGaN构成的第二氮化物半导体层;由InGaN构成的第三氮化物半导体层;和由Al组成比大于第一氮化物半导体层的AlGaN构成、且膜厚大于第二氮化物半导体层的第四氮化物半导体层。
公开日期2019-06-07
申请日期2013-12-02
状态授权
内容类型专利
源URL[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/38568]  
专题半导体激光器专利数据库
作者单位日亚化学工业株式会社
推荐引用方式
GB/T 7714
三好隆. 半导体激光元件. CN103855604B. 2019-06-07.
个性服务
查看访问统计
相关权益政策
暂无数据
收藏/分享
所有评论 (0)
暂无评论
 

除非特别说明,本系统中所有内容都受版权保护,并保留所有权利。


©版权所有 ©2017 CSpace - Powered by CSpace