半导体激光元件 | |
三好隆 | |
2019-06-07 | |
著作权人 | 日亚化学工业株式会社 |
专利号 | CN103855604B |
国家 | 中国 |
文献子类 | 授权发明 |
其他题名 | 半导体激光元件 |
英文摘要 | 本发明提供一种半导体激光元件,能够在使用了由氮化物半导体构成的基板的半导体激光元件中良好地限制光来降低FFP的脉动。半导体激光元件在由GaN构成的基板之上具有由氮化物半导体构成且折射率高于基板的发光层,在基板与发光层之间从基板的一侧起依次具有:由AlGaN构成的第一氮化物半导体层;由Al组成比大于第一氮化物半导体层的AlGaN构成的第二氮化物半导体层;由InGaN构成的第三氮化物半导体层;和由Al组成比大于第一氮化物半导体层的AlGaN构成、且膜厚大于第二氮化物半导体层的第四氮化物半导体层。 |
公开日期 | 2019-06-07 |
申请日期 | 2013-12-02 |
状态 | 授权 |
内容类型 | 专利 |
源URL | [http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/38568] |
专题 | 半导体激光器专利数据库 |
作者单位 | 日亚化学工业株式会社 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 三好隆. 半导体激光元件. CN103855604B. 2019-06-07. |
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