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	ライティング装置
	ペカルスキー,パヴェル; グローネンボーン,シュテファン
	2017-04-07
著作权人	コーニンクレッカ フィリップス エヌ ヴェ
专利号	JP6122036B2
国家	日本
文献子类	授权发明
其他题名	ライティング装置
英文摘要	当該発明は、交差平面において交差するエッジ(5)を備えた放出の円錐(4)を放出する光源(3)のアレイ(2)及びファーフィールドにおける強度分布を均質化するためのレンズユニット(7)を具備するライティング装置(1)に関係する。光源のアレイ及びレンズユニットは、i)放出の円錐がレンズユニットを横切ると共にii)光源のアレイ及びレンズユニットの間における距離(s)が20パーセント又はより少ない分だけa)レンズユニットの焦点距離並びにb)交差平面及び光源(3)のアレイ(2)の間における距離の和又はそれらの間における差からはずれるように配置される。この構成は、ファーフィールドにおける強度分布が実質的に均質なものであるようにファーフィールドにおける放出の円錐の混合に至る。
公开日期	2017-04-26
申请日期	2013-02-22
状态	授权
内容类型	专利
源URL	[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/34160]
专题	半导体激光器专利数据库
作者单位	コーニンクレッカ フィリップス エヌ ヴェ
推荐引用方式 GB/T 7714	ペカルスキー,パヴェル,グローネンボーン,シュテファン. ライティング装置. JP6122036B2. 2017-04-07.

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