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	マルチビーム光走査装置及び画像形成装置
	白石 貴志
	2013-05-02
著作权人	株式会社東芝
专利号	JP5258828B2
国家	日本
文献子类	授权发明
其他题名	マルチビーム光走査装置及び画像形成装置
英文摘要	【課題】透過率の角度依存による光量むらを低減し、ビーム形状を整える。 【解決手段】接合面が副走査方向から同じ方向に傾けて配置された複数のレーザダイオードと、接合面が前記レーザダイオードの副走査方向からの傾きと大きさが同じで反対方向に傾けられた複数のレーザダイオードと、上記全ての光線を合成する、偏光ビームスプリッタ面を持つ光路合成光学素子とを備えた。上記偏光ビームスプリッタ面の1面には接合面が同じ方向に傾いたレーザダイオードからの光が、反対面には他の方向に傾いたレーザダイオードからの光が、それぞれ異なる潜像を形成する光線毎に、副走査方向に異なる高さで入射し、偏光ビームスプリッタ面上で隣り合う、異なる潜像を形成する各光線の偏光方向を異ならせた。 【選択図】図13
公开日期	2013-08-07
申请日期	2010-04-12
状态	授权
内容类型	专利
源URL	[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/32842]
专题	半导体激光器专利数据库
作者单位	株式会社東芝
推荐引用方式 GB/T 7714	白石 貴志. マルチビーム光走査装置及び画像形成装置. JP5258828B2. 2013-05-02.

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