雷射裝置、光治療裝置、曝光裝置、元件製造方法、以及被檢查物檢查裝置
高田康利; 德久章
2015-01-21
著作权人尼康股份有限公司
专利号TWI470889B
国家中国台湾
文献子类授权发明
其他题名雷射裝置、光治療裝置、曝光裝置、元件製造方法、以及被檢查物檢查裝置
英文摘要進一步降低產生光纖熔合之可能性。 雷射裝置(1),具備激發光源、及透過光纖(4A,4B,4C)接受從激發光源輸出之激發光以進行光增幅之光增幅部。監測部,監測從激發光源透過光纖(4A,4B,4C)傳送至光增幅部側之激發光之功率位準。控制部,激發光源之激發光輸出開始之初,在使激發光源輸出既定功率位準之激發光後,從激發光源輸出既定功率位準之激發光時監測部所監測之功率位準高於既定值之情形時,係輸出高於既定功率位準之功率位準之激發光,另一方面,在從激發光源輸出既定功率位準之激發光時監測部所監測之功率位準在既定值以下之情形時,則停止輸出激發光。
公开日期2015-01-21
申请日期2009-08-25
状态授权
内容类型专利
源URL[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/32257]  
专题半导体激光器专利数据库
作者单位尼康股份有限公司
推荐引用方式
GB/T 7714
高田康利,德久章. 雷射裝置、光治療裝置、曝光裝置、元件製造方法、以及被檢查物檢查裝置. TWI470889B. 2015-01-21.
个性服务
查看访问统计
相关权益政策
暂无数据
收藏/分享
所有评论 (0)
暂无评论
 

除非特别说明,本系统中所有内容都受版权保护,并保留所有权利。


©版权所有 ©2017 CSpace - Powered by CSpace