CORC  > 大连理工大学
射频磁控溅射制备B-C-N薄膜及其结构和成分表征
管昌雨; 赵纪军; 庄春强; 贾福超; 白亦真; 姜辛
2009
会议名称TFC’09全国薄膜技术学术研讨会
会议日期2009-08-15
会议地点中国四川成都
关键词射频磁控溅射 B-C-N 硅衬底 靶材 原子级 碳氮 吸收峰 流量比
页码1
会议录TFC’09全国薄膜技术学术研讨会
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内容类型会议论文
URI标识http://www.corc.org.cn/handle/1471x/5287002
专题大连理工大学
作者单位1.大连理工大学物理与光电工程学院
2.大连理工大学三束材料改性实验室
3.大连理工大学材料科学与工程学院
推荐引用方式
GB/T 7714
管昌雨,赵纪军,庄春强,等. 射频磁控溅射制备B-C-N薄膜及其结构和成分表征[C]. 见:TFC’09全国薄膜技术学术研讨会. 中国四川成都. 2009-08-15.
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