射频磁控溅射制备B-C-N薄膜及其结构和成分表征 | |
管昌雨; 赵纪军; 庄春强; 贾福超; 白亦真; 姜辛 | |
2009 | |
会议名称 | TFC’09全国薄膜技术学术研讨会 |
会议日期 | 2009-08-15 |
会议地点 | 中国四川成都 |
关键词 | 射频磁控溅射 B-C-N 硅衬底 靶材 原子级 碳氮 吸收峰 流量比 |
页码 | 1 |
会议录 | TFC’09全国薄膜技术学术研讨会
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URL标识 | 查看原文 |
内容类型 | 会议论文 |
URI标识 | http://www.corc.org.cn/handle/1471x/5287002 |
专题 | 大连理工大学 |
作者单位 | 1.大连理工大学物理与光电工程学院 2.大连理工大学三束材料改性实验室 3.大连理工大学材料科学与工程学院 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 管昌雨,赵纪军,庄春强,等. 射频磁控溅射制备B-C-N薄膜及其结构和成分表征[C]. 见:TFC’09全国薄膜技术学术研讨会. 中国四川成都. 2009-08-15. |
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