| ECR-PECVD法低温制备微晶硅薄膜及其结构研究 | |
| 岳红云; 吴爱民; 张学宇; 胡娟; 李廷举 | |
| 2009 | |
| 会议名称 | TFC’09全国薄膜技术学术研讨会 |
| 会议日期 | 2009-08-15 |
| 会议地点 | 中国四川成都 |
| 关键词 | ECR-PECVD 微晶硅薄膜 化学气相沉积 低温制备 等离子体刻蚀 结构研究 电子回旋共振 缓冲层 微波功率 响应特性 |
| 页码 | 1 |
| 会议录 | TFC’09全国薄膜技术学术研讨会
 |
| URL标识 | 查看原文 |
| 内容类型 | 会议论文 |
| URI标识 | http://www.corc.org.cn/handle/1471x/5286983 |
| 专题 | 大连理工大学 |
| 作者单位 | 1.大连理工大学材料科学与工程学院 2.大连理工大学三束材料改性教育部重点实验室 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 岳红云,吴爱民,张学宇,等. ECR-PECVD法低温制备微晶硅薄膜及其结构研究[C]. 见:TFC’09全国薄膜技术学术研讨会. 中国四川成都. 2009-08-15. |
| 个性服务 |
| 查看访问统计 |
| 相关权益政策 |
| 暂无数据 |
| 收藏/分享 |
除非特别说明，本系统中所有内容都受版权保护，并保留所有权利。
修改评论