| 直流等离子体增强热丝化学气相沉积法(DC-Plasma-Enhanced HF-CVD)制备金刚石-碳化硅复合薄膜的初步研究 | |
| 王陶; 施维; 项礼; 姜辛 | |
| 2009 | |
| 会议名称 | 第十四届全国等离子体科学技术会议暨第五届中国电推进技术学术研讨会 |
| 会议日期 | 2009-07-20 |
| 会议地点 | 中国辽宁大连 |
| 关键词 | 等离子体增强 四甲基硅烷 复合薄膜 硅源 中间层 扫描电子显微镜 拉曼光谱 显微分析 电子探针 EPMA |
| 页码 | 1 |
| 会议录 | 第十四届全国等离子体科学技术会议暨第五届中国电推进技术学术研讨会
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| URL标识 | 查看原文 |
| 内容类型 | 会议论文 |
| URI标识 | http://www.corc.org.cn/handle/1471x/5286786 |
| 专题 | 大连理工大学 |
| 作者单位 | 1.大连理工大学 三束材料改性教育部重点实验室 2.大连理工大学 材料科学与工程学院 3.大连理工大学 化工学院 4.德国锡根大学 材料工程学院 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 王陶,施维,项礼,等. 直流等离子体增强热丝化学气相沉积法(DC-Plasma-Enhanced HF-CVD)制备金刚石-碳化硅复合薄膜的初步研究[C]. 见:第十四届全国等离子体科学技术会议暨第五届中国电推进技术学术研讨会. 中国辽宁大连. 2009-07-20. |
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