溅射功率对Fe_(81)Ga_(19)薄膜结构和磁性的影响 | |
马亚茹; 曹梦雄; 王兴宇; 马春林; 周卫平; 谭伟石 | |
刊名 | 热加工工艺 |
2017 | |
卷号 | 46期号:22页码:149-151,154 |
关键词 | Fe81Ga19薄膜 RF磁控溅射 溅射功率 微观结构 磁性 |
ISSN号 | 1001-3814 |
DOI | 10.14158/j.cnki.1001-3814.2017.22.036 |
URL标识 | 查看原文 |
内容类型 | 期刊论文 |
URI标识 | http://www.corc.org.cn/handle/1471x/5257375 |
专题 | 湖南城市学院 |
作者单位 | 南京理工大学理学院应用物理系软化学与功能材料教育部重点实验室 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 马亚茹,曹梦雄,王兴宇,等. 溅射功率对Fe_(81)Ga_(19)薄膜结构和磁性的影响[J]. 热加工工艺,2017,46(22):149-151,154. |
APA | 马亚茹,曹梦雄,王兴宇,马春林,周卫平,&谭伟石.(2017).溅射功率对Fe_(81)Ga_(19)薄膜结构和磁性的影响.热加工工艺,46(22),149-151,154. |
MLA | 马亚茹,et al."溅射功率对Fe_(81)Ga_(19)薄膜结构和磁性的影响".热加工工艺 46.22(2017):149-151,154. |
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