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	激光波长对非晶硅薄膜晶化效果的影响
	周德让[1]; 段国平[2]; 陈俊岭[3]; 韩俊鹤[4]; 黄明举[5]
刊名	光电子·激光
	2013
卷号	24期号:10页码:1948-1952
关键词	薄膜 非晶硅(a-Si) 连续激光晶化 波长 晶化率
ISSN号	1005-0086
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收录类别	EI ; 中文核心期刊要目总览中国科技核心期刊CSCD
内容类型	期刊论文
URI标识	http://www.corc.org.cn/handle/1471x/5248479
专题	河南大学
作者单位	[1] 河南大学物理与电子学院, 河南省光电信息材料与器件重点学科开放实验室, 开封, 河南 475004, 中国[2] 河南大学物理与电子学院, 河南省光电信息材料与器件重点学科开放实验室, 开封, 河南 475004, 中国[3] 河南大学物理与电子学院, 河南省光电信息材料与器件重点学科开放实验室, 开封, 河南 475004, 中国[4] 河南大学物理与电子学院, 河南省光电信息材料与器件重点学科开放实验室, 开封, 河南 475004, 中国[5] 河南大学物理与电子学院, 河南省光电信息材料与器件重点学科开放实验室, 开封, 河南 475004, 中国
推荐引用方式 GB/T 7714	周德让[1],段国平[2],陈俊岭[3],等. 激光波长对非晶硅薄膜晶化效果的影响[J]. 光电子·激光,2013,24(10):1948-1952.
APA	周德让[1],段国平[2],陈俊岭[3],韩俊鹤[4],&黄明举[5].(2013).激光波长对非晶硅薄膜晶化效果的影响.光电子·激光,24(10),1948-1952.
MLA	周德让[1],et al."激光波长对非晶硅薄膜晶化效果的影响".光电子·激光 24.10(2013):1948-1952.

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