预先老化对注FnMOS器件辐射可靠性的影响
崔帅; 余学峰; 任迪远; 张华林; 艾尔肯
刊名半导体学报
2005
卷号26期号:1页码:111-114
关键词预先老化 辐照 注F 可靠性
ISSN号0253-4177
其他题名effect of burn-in on irradiation reliablity of fluorinated nmosfet
中文摘要对注F和未注FCC4007器件在100℃高温老化后的Co60辐照特性进行了研究.研究发现辐照前的高温老化减少了注F器件在辐照中的界面态陷阱电荷的 积累,但是普通器件辐照前的高温老化在减少辐照中界面态积累的同时却增加了氧化物电荷的积累,损害了器件的可靠性.可见,栅介质中F离子的引入可以明显提 高器件的可靠性.
英文摘要The influence of 100"C burn-in before radiation on fluorinated CC4007 nMOS and those no fluorinated is reported. It is found that the burn-in before radiation can reduce the interface-trap in irradiation; but for no fluorinated in irradiation the in-terface-trap is reduced and oxide-trap is increased. The burn-in in 100"C before radiation can reduce the reliability for device no fluorinated. But introducing minute amounts of fluorinate ions can improve the reliability in irradiation.
学科主题Engineering (provided by Thomson Reuters)
公开日期2012-11-29
内容类型期刊论文
源URL[http://ir.xjipc.cas.cn/handle/365002/2238]  
专题新疆理化技术研究所_材料物理与化学研究室
作者单位中国科学院新疆理化技术研究所
推荐引用方式
GB/T 7714
崔帅,余学峰,任迪远,等. 预先老化对注FnMOS器件辐射可靠性的影响[J]. 半导体学报,2005,26(1):111-114.
APA 崔帅,余学峰,任迪远,张华林,&艾尔肯.(2005).预先老化对注FnMOS器件辐射可靠性的影响.半导体学报,26(1),111-114.
MLA 崔帅,et al."预先老化对注FnMOS器件辐射可靠性的影响".半导体学报 26.1(2005):111-114.
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