| 提拉法制备铜单晶基片的化学机械抛光研究 | |
| 娄有信; 王继扬; 张怀金; 李强; 严清峰; 马朝晖; 戴媛静 | |
| 刊名 | 人工晶体学报
 |
| 2011 | |
| 卷号 | 40期号:6页码:1418-1422+1428 |
| 关键词 | 单晶铜 化学机械抛光 表面粗糙度 |
| URL标识 | 查看原文 |
| 内容类型 | 期刊论文 |
| URI标识 | http://www.corc.org.cn/handle/1471x/5246015 |
| 专题 | 山东大学 |
| 作者单位 | 1.山东大学, 晶体材料国家重点实验室, 济南, 山东 250100, 中国. 2.山东大学, 晶体材料国家重点实验室, 济南, 山东 250100, 中国. 3.山东大 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 娄有信,王继扬,张怀金,等. 提拉法制备铜单晶基片的化学机械抛光研究[J]. 人工晶体学报,2011,40(6):1418-1422+1428. |
| APA | 娄有信.,王继扬.,张怀金.,李强.,严清峰.,...&戴媛静.(2011).提拉法制备铜单晶基片的化学机械抛光研究.人工晶体学报,40(6),1418-1422+1428. |
| MLA | 娄有信,et al."提拉法制备铜单晶基片的化学机械抛光研究".人工晶体学报 40.6(2011):1418-1422+1428. |
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