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Influence of thermal stress on the relative permittivity of the AlGaN barrier layer in an AlGaN/GaN heterostructure Schottky contacts
吕元杰[1]; 林兆军[1]; 张宇[1]; 孟令国[1]; 曹芝芳[1]; 栾崇彪[1]; 陈弘[2]; 王占国[3]
刊名中国物理:英文版
2011
期号09
关键词相对介电常数 异质结器件 肖特基接触 热应力 屏障 逆压电效应 时间常数 泊松方程
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内容类型期刊论文
URI标识http://www.corc.org.cn/handle/1471x/5231022
专题山东大学
作者单位1.School of Physics, Shandong University, Jinan 250100, China.
2.Beijing National Laboratory for Condensed
推荐引用方式
GB/T 7714
吕元杰[1],林兆军[1],张宇[1],et al. Influence of thermal stress on the relative permittivity of the AlGaN barrier layer in an AlGaN/GaN heterostructure Schottky contacts[J]. 中国物理:英文版,2011(09).
APA 吕元杰[1].,林兆军[1].,张宇[1].,孟令国[1].,曹芝芳[1].,...&王占国[3].(2011).Influence of thermal stress on the relative permittivity of the AlGaN barrier layer in an AlGaN/GaN heterostructure Schottky contacts.中国物理:英文版(09).
MLA 吕元杰[1],et al."Influence of thermal stress on the relative permittivity of the AlGaN barrier layer in an AlGaN/GaN heterostructure Schottky contacts".中国物理:英文版 .09(2011).
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