氮气流量对中频非平衡反应磁控溅射制备CrAlN薄膜性能的影响

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	氮气流量对中频非平衡反应磁控溅射制备CrAlN薄膜性能的影响
	李红轩; 周惠娣; 吉利; 陈建敏; 刘晓红
刊名	中国表面工程
	2011
卷号	24 期号:4 页码:7-12
关键词	磁控溅射 CrAlN 薄膜微观结构硬度腐蚀 magnetron sputtering CrAlN film microstructre hardness corrosion
ISSN号	1007-9289
中文摘要	采用中频非平衡反应磁控溅射技术制备 CrAlN 薄膜, 研究了氮气分压对 CrAlN 薄膜的沉积速率、薄膜成分、微观结构、机械性能和耐腐蚀性能的影响, 并与 CrN 薄膜的性能进行了比较。研究表明, 相比较 CrN 薄膜而言, CrAlN 薄膜的硬度高,结构致密, 耐腐蚀性好。随着氮气流量的升高, CrAlN 薄膜沉积速率降低, Cr/ Al 比率升高;薄膜中 CrN ( 200) 衍射峰强度逐渐增强, 六方结构的 AlN 相逐渐消失; 薄膜的粗糙度由 39 nm 降低至 10 nm,并且腐蚀电位升高, 耐腐性增强。当氮气流量为 53 mL/ min 时, CrAlN 薄膜具有最佳的硬度和优良的耐腐蚀性能。
学科主题	材料科学与物理化学
资助信息	国家自然科学基金(50705093);创新群体基金(50421502)
语种	中文
公开日期	2012-09-24
内容类型	期刊论文
源URL	[http://210.77.64.217/handle/362003/936]
专题	兰州化学物理研究所_固体润滑国家重点实验室兰州化学物理研究所_先进润滑与防护材料研究发展中心
推荐引用方式 GB/T 7714	李红轩,周惠娣,吉利,等. 氮气流量对中频非平衡反应磁控溅射制备CrAlN薄膜性能的影响[J]. 中国表面工程,2011,24(4):7-12.
APA	李红轩,周惠娣,吉利,陈建敏,&刘晓红.(2011).氮气流量对中频非平衡反应磁控溅射制备CrAlN薄膜性能的影响.中国表面工程,24(4),7-12.
MLA	李红轩,et al."氮气流量对中频非平衡反应磁控溅射制备CrAlN薄膜性能的影响".中国表面工程 24.4(2011):7-12.