| 羰基化合物在Si（100）表面[2＋2]环加成和α-H裂解反应的选择性 | |
| 张继超[1]; 程学礼[2]; 程玉桥[1]; 孟祥华[2]; 刘永军[2]; 刘成卜[2] | |
| 刊名 | 物理化学学报
 |
| 2012 | |
| 卷号 | 28期号:8页码:1849-1853 |
| 关键词 | 密度泛函理论:环加成反应:α-H裂解反应:羰基化合物 |
| DOI | 10.3866/PKU.WHXB201206081 |
| URL标识 | 查看原文 |
| 内容类型 | 期刊论文 |
| URI标识 | http://www.corc.org.cn/handle/1471x/5189223 |
| 专题 | 山东大学 |
| 作者单位 | 1.中国石化胜利油田分公司地质科学研究院,山东东营257015,中国. 2.山东大学化学与化工学院,济南250100,中国 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 张继超[1],程学礼[2],程玉桥[1],等. 羰基化合物在Si（100）表面[2＋2]环加成和α-H裂解反应的选择性[J]. 物理化学学报,2012,28(8):1849-1853. |
| APA | 张继超[1],程学礼[2],程玉桥[1],孟祥华[2],刘永军[2],&刘成卜[2].(2012).羰基化合物在Si（100）表面[2＋2]环加成和α-H裂解反应的选择性.物理化学学报,28(8),1849-1853. |
| MLA | 张继超[1],et al."羰基化合物在Si（100）表面[2＋2]环加成和α-H裂解反应的选择性".物理化学学报 28.8(2012):1849-1853. |
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