CORC  > 河北大学
衬底温度对磁控溅射制备外延ZnO薄膜结构特性的影响
周阳[1]; 仇满德[2]; 赵庆勋[3]; 李晓红[4]; 彭英才[5]; 刘保亭[6]
刊名功能材料
2009
卷号40期号:5页码:735-738
关键词ZnO薄膜 射频磁控溅射 衬底温度 外延生长
ISSN号1001-9731
DOIhttp://dx.doi.org/10.3321/j.issn:1001-9731.2009.05.009
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内容类型期刊论文
URI标识http://www.corc.org.cn/handle/1471x/5114269
专题河北大学
作者单位[1]河北大学,物理科学与技术学院,河北,保定,071002[2]河北大学,化学与环境科学学院,河北,保定,071002[3]河北大学,物理科学与技术学院,河北,保定,071002[4]河北大学,物理科学与技术学院,河北,保定,071002[5]河北大学,电子信息工程学院,河北,保定,071002[6]河北大学,物理科学与技术学院,河北,保定,071002
推荐引用方式
GB/T 7714
周阳[1],仇满德[2],赵庆勋[3],等. 衬底温度对磁控溅射制备外延ZnO薄膜结构特性的影响[J]. 功能材料,2009,40(5):735-738.
APA 周阳[1],仇满德[2],赵庆勋[3],李晓红[4],彭英才[5],&刘保亭[6].(2009).衬底温度对磁控溅射制备外延ZnO薄膜结构特性的影响.功能材料,40(5),735-738.
MLA 周阳[1],et al."衬底温度对磁控溅射制备外延ZnO薄膜结构特性的影响".功能材料 40.5(2009):735-738.
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