| 沉积温度对磁控溅射生长SrRuO_3薄膜结构和性能的影响 | |
| 王宽冒[1]; 张沧生[2]; 李曼[3]; 周阳[4]; 王玉强[5]; 王侠[6]; 彭英才[7]; 刘保亭[8] | |
| 刊名 | 人工晶体学报
 |
| 2010 | |
| 卷号 | 39期号:1页码:135-138,148 |
| 关键词 | SrRuO_3 磁控溅射 外延薄膜 |
| ISSN号 | 1000-985X |
| URL标识 | 查看原文 |
| 内容类型 | 期刊论文 |
| URI标识 | http://www.corc.org.cn/handle/1471x/5105217 |
| 专题 | 河北大学 |
| 作者单位 | 1.河北大学物理科学与技术学院,保定,071002 2.河北大学计算中心,保定,071002 3.河北大学电子信息工程学院,保定,071002 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 王宽冒[1],张沧生[2],李曼[3],等. 沉积温度对磁控溅射生长SrRuO_3薄膜结构和性能的影响[J]. 人工晶体学报,2010,39(1):135-138,148. |
| APA | 王宽冒[1].,张沧生[2].,李曼[3].,周阳[4].,王玉强[5].,...&刘保亭[8].(2010).沉积温度对磁控溅射生长SrRuO_3薄膜结构和性能的影响.人工晶体学报,39(1),135-138,148. |
| MLA | 王宽冒[1],et al."沉积温度对磁控溅射生长SrRuO_3薄膜结构和性能的影响".人工晶体学报 39.1(2010):135-138,148. |
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