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	快速退火对Ni-Al-O栅介质结构和介电性能的影响
	Li Man[1]; Liu Bao-Ting[2]; Wang Yu-Qiang[3]; Wang Kuan-Mao[4]
刊名	无机材料学报
	2011
卷号	26期号:3页码:257-260
关键词	高k栅介质 Ni-Al-O薄膜 反应脉冲激光沉积
DOI	http://dx.doi.org/10.3724/SP.J.1077.2011.00257
URL标识	查看原文
内容类型	期刊论文
URI标识	http://www.corc.org.cn/handle/1471x/5100721
专题	河北大学
作者单位	1.[1]Hebei Univ, Coll Phys Sci & Technol, Baoding 071002, Peoples R China. 2.[2]Hebei Univ, Coll Phys Sci & Technol, Baoding 071002, Peoples R China. 3.[3]Hebei Univ, Coll Elect & Informat Engn, Baoding 071002, Peoples R China. 4.[4]Hebei Univ, Coll Phys Sci & Technol, Baoding 071002, Peoples R China.
推荐引用方式 GB/T 7714	Li Man[1],Liu Bao-Ting[2],Wang Yu-Qiang[3],等. 快速退火对Ni-Al-O栅介质结构和介电性能的影响[J]. 无机材料学报,2011,26(3):257-260.
APA	Li Man[1],Liu Bao-Ting[2],Wang Yu-Qiang[3],&Wang Kuan-Mao[4].(2011).快速退火对Ni-Al-O栅介质结构和介电性能的影响.无机材料学报,26(3),257-260.
MLA	Li Man[1],et al."快速退火对Ni-Al-O栅介质结构和介电性能的影响".无机材料学报 26.3(2011):257-260.

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