| 低压环境中外加氩气流对激光沉积纳米硅晶粒尺寸及分布的影响 | |
| 王英龙[1]; 高建聪[2]; 褚立志[3]; 邓泽超[4]; 丁学成[5]; 傅广生[6] | |
| 刊名 | 人工晶体学报
 |
| 2012 | |
| 卷号 | 41期号:5页码:1211-1215 |
| 关键词 | 脉冲激光烧蚀 纳米Si晶粒 尺寸 |
| ISSN号 | 1000-985X |
| URL标识 | 查看原文 |
| 内容类型 | 期刊论文 |
| URI标识 | http://www.corc.org.cn/handle/1471x/5094007 |
| 专题 | 河北大学 |
| 作者单位 | [1]河北大学物理科学与技术学院[2]河北大学物理科学与技术学院[3]河北大学物理科学与技术学院[4]河北大学物理科学与技术学院[5]河北大学物理科学与技术学院[6]河北大学物理科学与技术学院 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 王英龙[1],高建聪[2],褚立志[3],等. 低压环境中外加氩气流对激光沉积纳米硅晶粒尺寸及分布的影响[J]. 人工晶体学报,2012,41(5):1211-1215. |
| APA | 王英龙[1],高建聪[2],褚立志[3],邓泽超[4],丁学成[5],&傅广生[6].(2012).低压环境中外加氩气流对激光沉积纳米硅晶粒尺寸及分布的影响.人工晶体学报,41(5),1211-1215. |
| MLA | 王英龙[1],et al."低压环境中外加氩气流对激光沉积纳米硅晶粒尺寸及分布的影响".人工晶体学报 41.5(2012):1211-1215. |
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