CORC  > 河北大学
富硅氮化硅/c-Si异质结中的电流输运机理研究
丁文革[1]; 桑云刚[2]; 于威[3]; 杨彦斌[4]; 滕晓云[5]; 傅广生[6]
刊名物理学报
2012
期号24页码:484-489
关键词对靶磁控溅射 富硅氮化硅 异质结 传输机理
ISSN号1000-3290
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内容类型期刊论文
URI标识http://www.corc.org.cn/handle/1471x/5087946
专题河北大学
作者单位1.河北大学物理科学与技术学院
2.河北省光电信息材料重点实验室
推荐引用方式
GB/T 7714
丁文革[1],桑云刚[2],于威[3],等. 富硅氮化硅/c-Si异质结中的电流输运机理研究[J]. 物理学报,2012(24):484-489.
APA 丁文革[1],桑云刚[2],于威[3],杨彦斌[4],滕晓云[5],&傅广生[6].(2012).富硅氮化硅/c-Si异质结中的电流输运机理研究.物理学报(24),484-489.
MLA 丁文革[1],et al."富硅氮化硅/c-Si异质结中的电流输运机理研究".物理学报 .24(2012):484-489.
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