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	表面粗糙氢化非晶硅薄膜光学常量的确定
	丁文革[1]; 卢云霞[2]; 马登浩[3]; 苑静[4]; 侯玉斌[5]; 于威[6]; 傅广生[7]
刊名	光学学报
	2013
卷号	33期号:3页码:0331001-1-0331001-6
关键词	薄膜 氢化非晶硅薄膜 表面粗糙系数 透射光谱 光学常量
URL标识	查看原文
内容类型	期刊论文
URI标识	http://www.corc.org.cn/handle/1471x/5087627
专题	河北大学
作者单位	[1]河北大学物理科学与技术学院河北省光电信息材料重点实验室[2]河北大学物理科学与技术学院河北省光电信息材料重点实验室[3]河北大学物理科学与技术学院河北省光电信息材料重点实验室[4]河北大学物理科学与技术学院河北省光电信息材料重点实验室[5]河北大学物理科学与技术学院河北省光电信息材料重点实验室[6]河北大学物理科学与技术学院河北省光电信息材料重点实验室[7]河北大学物理科学与技术学院河北省光电信息材料重点实验室
推荐引用方式 GB/T 7714	丁文革[1],卢云霞[2],马登浩[3],等. 表面粗糙氢化非晶硅薄膜光学常量的确定[J]. 光学学报,2013,33(3):0331001-1-0331001-6.
APA	丁文革[1].,卢云霞[2].,马登浩[3].,苑静[4].,侯玉斌[5].,...&傅广生[7].(2013).表面粗糙氢化非晶硅薄膜光学常量的确定.光学学报,33(3),0331001-1-0331001-6.
MLA	丁文革[1],et al."表面粗糙氢化非晶硅薄膜光学常量的确定".光学学报 33.3(2013):0331001-1-0331001-6.

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