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	保持温度对偏轴磁控溅射法制备BiFeO_3薄膜结构和性能的影响
	郝彦磊[1]; 刘保亭[2]; 彭增伟[3]; 贾冬梅[4]; 朱慧娟[5]; 张宪贵[6]
刊名	人工晶体学报
	2013
卷号	42期号:2页码:246-250
关键词	偏轴磁控溅射 保持温度 XRD BiFeO3
URL标识	查看原文
内容类型	期刊论文
URI标识	http://www.corc.org.cn/handle/1471x/5087601
专题	河北大学
作者单位	[1]河北大学物理科学与技术学院[2]河北大学物理科学与技术学院[3]河北大学物理科学与技术学院[4]河北大学物理科学与技术学院[5]河北大学物理科学与技术学院[6]河北大学物理科学与技术学院
推荐引用方式 GB/T 7714	郝彦磊[1],刘保亭[2],彭增伟[3],等. 保持温度对偏轴磁控溅射法制备BiFeO_3薄膜结构和性能的影响[J]. 人工晶体学报,2013,42(2):246-250.
APA	郝彦磊[1],刘保亭[2],彭增伟[3],贾冬梅[4],朱慧娟[5],&张宪贵[6].(2013).保持温度对偏轴磁控溅射法制备BiFeO_3薄膜结构和性能的影响.人工晶体学报,42(2),246-250.
MLA	郝彦磊[1],et al."保持温度对偏轴磁控溅射法制备BiFeO_3薄膜结构和性能的影响".人工晶体学报 42.2(2013):246-250.

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