射频功率及工作气压对微型ICP激发源光谱强度的影响 | |
王永清[1]; 杨帅[2]; 王硕南[3]; 韩芳芳[4] | |
刊名 | 分析试验室 |
2015 | |
卷号 | 34期号:8页码:989-992 |
关键词 | 微型 ICP激发源 射频功率 气压 |
URL标识 | 查看原文 |
内容类型 | 期刊论文 |
URI标识 | http://www.corc.org.cn/handle/1471x/5072435 |
专题 | 河北大学 |
作者单位 | [1]河北大学电子信息工程学院[2]河北大学电子信息工程学院[3]河北大学电子信息工程学院[4]河北大学电子信息工程学院 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 王永清[1],杨帅[2],王硕南[3],等. 射频功率及工作气压对微型ICP激发源光谱强度的影响[J]. 分析试验室,2015,34(8):989-992. |
APA | 王永清[1],杨帅[2],王硕南[3],&韩芳芳[4].(2015).射频功率及工作气压对微型ICP激发源光谱强度的影响.分析试验室,34(8),989-992. |
MLA | 王永清[1],et al."射频功率及工作气压对微型ICP激发源光谱强度的影响".分析试验室 34.8(2015):989-992. |
个性服务 |
查看访问统计 |
相关权益政策 |
暂无数据 |
收藏/分享 |
除非特别说明,本系统中所有内容都受版权保护,并保留所有权利。
修改评论