Fabrication of the slanted electrode matrix on tilting 4.5 degrees (111) silicon

	Fabrication of the slanted electrode matrix on tilting 4.5 degrees (111) silicon
	Jia C. P. ; Dong W. ; Liu C. X. ; Zhou J. G. ; Zhang X. D. ; Sun D. M. ; Zang H. D. ; Xuan W. ; Xua B. K. ; Chen W. Y.
刊名	Optik
	2008
卷号	119 期号:1 页码:23-28
ISSN号	0030-4026
其他题名	论文其他题名
合作状况	合作性质
收录类别	SCI
语种	英语
公开日期	2012-10-21
内容类型	期刊论文
源URL	[http://ir.ciomp.ac.cn/handle/181722/24836]
专题	长春光学精密机械与物理研究所_中科院长春光机所知识产出
推荐引用方式 GB/T 7714	Jia C. P.,Dong W.,Liu C. X.,et al. Fabrication of the slanted electrode matrix on tilting 4.5 degrees (111) silicon[J]. Optik,2008,119(1):23-28.
APA	Jia C. P..,Dong W..,Liu C. X..,Zhou J. G..,Zhang X. D..,...&Chen W. Y..(2008).Fabrication of the slanted electrode matrix on tilting 4.5 degrees (111) silicon.Optik,119(1),23-28.
MLA	Jia C. P.,et al."Fabrication of the slanted electrode matrix on tilting 4.5 degrees (111) silicon".Optik 119.1(2008):23-28.