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	磁控溅射技术制备硅纳米晶多层膜及微观结构表征
	赵志明; 马二云; 张晓静; 田亚萍; 屈直; 百穹; 曹智睿; 白力静; 张国君; 蒋百灵
	2012
卷号	43页码:732-735
关键词	磁控溅射技术 Si/Si1-xNx多层膜 Si纳米晶 Si3N4纳米晶 TEM
ISSN号	1001-9731
DOI	10.3969/j.issn.1001-9731.2012.06.015
URL标识	查看原文
内容类型	期刊论文
URI标识	http://www.corc.org.cn/handle/1471x/5014189
专题	西安理工大学
推荐引用方式 GB/T 7714	赵志明,马二云,张晓静,等. 磁控溅射技术制备硅纳米晶多层膜及微观结构表征[J],2012,43:732-735.
APA	赵志明.,马二云.,张晓静.,田亚萍.,屈直.,...&蒋百灵.(2012).磁控溅射技术制备硅纳米晶多层膜及微观结构表征.,43,732-735.
MLA	赵志明,et al."磁控溅射技术制备硅纳米晶多层膜及微观结构表征".43(2012):732-735.

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