| 题名 | 磁控溅射制备A-Si/SiNx及NiOx/Ni多层膜及其结构性能的研究 |
| 作者 | 马二云 |
| 答辩日期 | 2013 |
| 授予单位 | 西安理工大学 |
| 关键词 | 反应磁控溅射 NiOx/Ni多层膜 纳米晶 结构性能 电阻率 |
| 学位名称 | 硕士 |
| URL标识 | 查看原文 |
| 内容类型 | 学位论文 |
| URI标识 | http://www.corc.org.cn/handle/1471x/5004530 |
| 专题 | 西安理工大学 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 马二云. 磁控溅射制备A-Si/SiNx及NiOx/Ni多层膜及其结构性能的研究[D]. 西安理工大学. 2013. |
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