沉积方式对HfO_2薄膜激光损伤阈值的影响

	沉积方式对HfO_2薄膜激光损伤阈值的影响
	阚珊珊
刊名	华中科技大学学报
	2007-06-30
期号	S1
中文摘要	分别采用电子束蒸镀、离子束辅助沉积、离子束反应辅助沉积、双离子束溅射技术制备了二氧化铪薄膜,研究了薄膜的光学特性、缺陷、残余应力、弱吸收和抗激光损伤阈值.发现离子束反应辅助沉积的二氧化铪薄膜具有低的缺陷密度和高的损伤阈值;双离子束溅射的二氧化铪薄膜具有高的折射率、高的残余应力和低的损伤阈值.对二氧化铪薄膜的损伤阈值与上述特性之间的依赖关系进行了讨论,发现残余应力是影响薄膜抗激光损伤阈值的一个重要原因.
公开日期	2012-09-25
内容类型	期刊论文
源URL	[http://ir.ciomp.ac.cn/handle/181722/23912]
专题	长春光学精密机械与物理研究所_中科院长春光机所知识产出
推荐引用方式 GB/T 7714	阚珊珊. 沉积方式对HfO_2薄膜激光损伤阈值的影响[J]. 华中科技大学学报,2007(S1).
APA	阚珊珊.(2007).沉积方式对HfO_2薄膜激光损伤阈值的影响.华中科技大学学报(S1).
MLA	阚珊珊."沉积方式对HfO_2薄膜激光损伤阈值的影响".华中科技大学学报 .S1(2007).