聚二甲基硅氧烷表面亲水性的研究

	聚二甲基硅氧烷表面亲水性的研究
	张平 ; 吴一辉
刊名	分析化学
	2006-04-30
卷号	2 期号:34 页码:508
ISSN号	0253-3820
中文摘要	为了使聚二甲基硅氧烷(PDMS)具有较稳定的亲水性表面,利用氧等离子体技术对PDMS表面进行处理。研究了氧等离子体处理PDMS表面的时间、功率、氧气流量等参数对表面亲水性的影响,通过接触角测量和X-射线光电子能谱(XPS)对处理效果进行了评价。实验表明:PDMS经氧等离子体处理后放置700h的表面接触角为72°,达到了持久改性的目的;XPS分析表明,表面亲水性的改善主要是由于表面极性成分的增加,最后讨论了氧等离子体处理PDMS表面的改性机理。
收录类别	SCI
公开日期	2012-09-25
内容类型	期刊论文
源URL	[http://ir.ciomp.ac.cn/handle/181722/23699]
专题	长春光学精密机械与物理研究所_中科院长春光机所知识产出
推荐引用方式 GB/T 7714	张平,吴一辉. 聚二甲基硅氧烷表面亲水性的研究[J]. 分析化学,2006,2(34):508.
APA	张平,&吴一辉.(2006).聚二甲基硅氧烷表面亲水性的研究.分析化学,2(34),508.
MLA	张平,et al."聚二甲基硅氧烷表面亲水性的研究".分析化学 2.34(2006):508.