SiO_2单层膜的反常色散研究

	SiO_2单层膜的反常色散研究
	李香波 ; 高劲松 ; 王彤彤 ; 王笑夷 ; 陈红 ; 郑宣明 ; 申振峰 ; 朱华新 ; 尹少辉 ; 刘小涵 ; 王珊珊
刊名	光子学报
	2009-08-15
期号	8
关键词	光学薄膜反常色散等效折射率变折射率
ISSN号	1004-4213
中文摘要	利用等效折射率概念分析了SiO2单层膜反常色散出现的原因,并在1.1m镀膜机上证明了理论分析的合理性.结果表明,理论分析与实验结果一致,沿薄膜厚度方向折射率的对称周期变化使薄膜的等效折射率变化在可见光波段与致密膜层的变化不一致,表现出反常色散的现象.膜厚方向折射率变化周期越大,等效折射率随波长增加的趋势就越大,薄膜表现出的反常色散特性越明显.沿膜厚方向折射率变化幅度的对色散特性影响次之.
公开日期	2012-09-25
内容类型	期刊论文
源URL	[http://ir.ciomp.ac.cn/handle/181722/22177]
专题	长春光学精密机械与物理研究所_中科院长春光机所知识产出
推荐引用方式 GB/T 7714	李香波,高劲松,王彤彤,等. SiO_2单层膜的反常色散研究[J]. 光子学报,2009(8).
APA	李香波.,高劲松.,王彤彤.,王笑夷.,陈红.,...&王珊珊.(2009).SiO_2单层膜的反常色散研究.光子学报(8).
MLA	李香波,et al."SiO_2单层膜的反常色散研究".光子学报 .8(2009).