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	高反射率高带宽的亚波长光栅反射镜的制作方法; 高反射率高带宽的亚波长光栅反射镜的制作方法; 高反射率高带宽的亚波长光栅反射镜的制作方法; 高反射率高带宽的亚波长光栅反射镜的制作方法
	刘安金 ; 陈微 ; 周文君 ; 付非亚 ; 王宇飞 ; 郑婉华
专利国别	中国
专利号	CN102109625A
专利类型	发明
权利人	中国科学院半导体研究所
中文摘要	本发明提供一种高反射率高带宽的亚波长光栅反射镜的制作方法,包括如下步骤：步骤1：取一衬底；步骤2：在该衬底上依次生长材料层、介质层和金属层,在介质层和金属层界面处能够激发表面等离子体模式；步骤3：采用感应耦合等离子体刻蚀的方法或者剥离技术,依次将金属层、介质层和材料层刻蚀,形成周期性的条形光栅结构,完成器件的制作。
公开日期	2012-09-09 ; 2012-09-09 ; 2012-09-09
语种	中文
专利申请号	CN201110049965.6
内容类型	专利
源URL	[http://ir.semi.ac.cn/handle/172111/23466]
专题	半导体研究所_纳米光电子实验室
推荐引用方式 GB/T 7714	刘安金,陈微,周文君,等. 高反射率高带宽的亚波长光栅反射镜的制作方法, 高反射率高带宽的亚波长光栅反射镜的制作方法, 高反射率高带宽的亚波长光栅反射镜的制作方法, 高反射率高带宽的亚波长光栅反射镜的制作方法. CN102109625A.

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