一种采用均匀进气系统的原子层沉积装置 (发明) | |
单崇新 ; 申赫 ; 于吉 ; 刘兴宇 ; 王双鹏 ; 李炳辉 ; 申德振 | |
2012-01-11 | |
专利类型 | 发明专利 |
权利人 | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 |
中文摘要 | 一种采用均匀进气系统的原子层沉积装置,涉及一种原子层沉积装置。它解决现有技术中前驱体与衬底或上一原子层接触的均匀性差、反应物利用率低和材料生长周期长导致的沉积效率低问题。该装置包括反应腔室、第一前驱体容器、第二前驱体容器、辅助吹扫气体容器、第一气体供应管路、第二气体供应管路、辅助吹扫气体供应管路、均匀进气系统和腔体盖等…… |
公开日期 | 2012-08-29 |
专利申请号 | 201110262384.0 |
内容类型 | 专利 |
源URL | [http://ir.ciomp.ac.cn/handle/181722/12021] ![]() |
专题 | 长春光学精密机械与物理研究所_中科院长春光机所知识产出 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 单崇新,申赫,于吉,等. 一种采用均匀进气系统的原子层沉积装置 (发明). 2012-01-11. |
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