| 一种全息光栅制作光路中精确调整刻线密度的装置 (发明) | |
| 李文昊 ; 高键翔 ; 巴音贺希格 ; 齐向东 ; 谭鑫 ; 曾瑾 | |
| 2010-06-23 | |
| 专利类型 | 发明专利 |
| 权利人 | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 |
| 中文摘要 | 一种全息光栅制作光路中精确调整刻线密度的装置，属于光谱技术领域中涉及的一种装置。要解决的技术问题是提供一种全息光栅制作光路中精确调整刻线密度的装置。技术方案包括激光光源、第一平面反射镜和第二平面反射镜、空间滤波器、准直反射镜、调整反射镜、干涉场、基准光栅、接收屏、支撑旋转台等部件。通过调整支撑旋转台上的上层转台和调节螺…… |
| 公开日期 | 2012-08-29 |
| 专利申请号 | 200910215469.6 |
| 内容类型 | 专利 |
| 源URL | [http://ir.ciomp.ac.cn/handle/181722/11710]  |
| 专题 | 长春光学精密机械与物理研究所_中科院长春光机所知识产出 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 李文昊,高键翔,巴音贺希格,等. 一种全息光栅制作光路中精确调整刻线密度的装置 (发明). 2010-06-23. |
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