制备多晶硅的方法 (发明)
廖燕平 ; 邵喜斌 ; 付国柱 ; 荆海 ; 郜峰利 ; 缪国庆
2004-11-10
专利类型发明专利
权利人中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
中文摘要本发明属于半导体材料技术领域,是一种把非晶硅转化成多晶硅的方法。本发明是在已脱氢的非晶硅表面溅射一薄层金属镍,薄层厚度为0.5~2.5nm。在400~500℃温度,氮气气氛下退火2~4小时,形成镍硅化合物NiSi,用能量密度为260~360mJ/cm↑[2]的准分子激光把非晶硅熔化。随着熔化的非晶硅温度降低,在非晶硅的……
公开日期2012-08-29
专利申请号200310110056.4
内容类型专利
源URL[http://ir.ciomp.ac.cn/handle/181722/11391]  
专题长春光学精密机械与物理研究所_中科院长春光机所知识产出
推荐引用方式
GB/T 7714
廖燕平,邵喜斌,付国柱,等. 制备多晶硅的方法 (发明). 2004-11-10.
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