用电化学沉积制备锰掺杂的氧化锌纳米柱的方法 (发明) | |
曹萍 ; 赵东旭 ; 张吉英 ; 吕有明 ; 范希武 ; 申德振 ; 李炳生 | |
2008-10-22 | |
专利类型 | 发明专利 |
权利人 | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 |
中文摘要 | 本发明涉及采用电化学沉积生长方法在导电衬底上生长有锰掺杂的氧化锌稀磁半导体薄膜和纳米柱。沉积前,首先对导电衬底进行清洗后作为工作电极;然后采用溶质为ZnCl↓[2]、Mn(CH↓[3]COOH)↓[2]和Zn(CH↓[3]COO)↓[2]一起与去离子水配制成电解溶液,在上述电解溶液中添加0.1mol/L的氯化钾KCl形…… |
公开日期 | 2008-10-22 |
专利申请号 | 200510017068.1 |
内容类型 | 专利 |
源URL | [http://ir.ciomp.ac.cn/handle/181722/11376] ![]() |
专题 | 长春光学精密机械与物理研究所_中科院长春光机所知识产出 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 曹萍,赵东旭,张吉英,等. 用电化学沉积制备锰掺杂的氧化锌纳米柱的方法 (发明). 2008-10-22. |
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