| 一种平面全息光栅制作中精确控制刻线密度的方法 (发明) | |
| 巴音贺希格 ; 齐向东 ; 李英海 ; 于宏柱 ; 李文昊 | |
| 2008-02-27 | |
| 专利类型 | 发明专利 |
| 权利人 | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 |
| 中文摘要 | 一种平面全息光栅制作中精确控制光栅刻线密度的方法，属于光谱技术领域中涉及的一种方法。要解决的技术问题：提供一种平面全息光栅制作中精确控制光栅刻线密度的方法。解决的技术方案：第一，配备一套全息光栅曝光装置，第二，在该装置光路中置入标准机刻光栅和半反射镜，再从准直反射镜光路中分出光路，使其产生干涉条纹，第三，在光路中取出标…… |
| 公开日期 | 2008-02-27 |
| 专利申请号 | 200310115844.2 |
| 内容类型 | 专利 |
| 源URL | [http://ir.ciomp.ac.cn/handle/181722/11303]  |
| 专题 | 长春光学精密机械与物理研究所_中科院长春光机所知识产出 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 巴音贺希格,齐向东,李英海,等. 一种平面全息光栅制作中精确控制刻线密度的方法 (发明). 2008-02-27. |
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