题名 | 上海光源BL14W1线站掠入射XAFS方法的实现及应用研究 |
作者 | 于海生 |
学位类别 | 硕士 |
答辩日期 | 2011-05 |
授予单位 | 中国科学院研究生院 |
导师 | 黄宇营 |
关键词 | 掠入射 XAFS 薄膜 |
学位专业 | 核技术及应用 |
中文摘要 | Ni/Ti多层膜是中子超反射镜光学元件中最重要的材料组合之一,一直以来得到了极大的关注,界面条件在很大程度上决定了超反射镜的质量。通过磁控溅射方法制备的Ti/Ni/Ti薄膜界面处晶化程度很差,存在不同膜层元素的混合与扩散,缺乏有效的表征薄膜界面结构的手段。本文首次运用XRR和掠入射XAFS相结合的方法研究了Ti/Ni/Ti薄膜的界面结构随Ni层厚度的变化,采用Ni foil和NiTi相互扩散混合相的两相结构模型对反射率和吸收谱进行了拟合计算,结果表明,随着薄膜厚度的增加,Ni/Ti界面层间的相互扩散有所增加,Ni层厚度为5nm时,Ni/Ti界面层间的扩散厚度为2nm左右;Ni层厚度为1nm时,由于无序度较大,Ni-Ni配位和Ni-Ti配位的键长有所收缩;随着薄膜Ni层厚度的减小,无序度逐渐增加,Ni-Ti配位增加,Ni-Ni配位减少。实验结果证明,上海光源XAFS线站掠入射系统性能稳定可靠,可以用于薄膜表面及界面的结构研究。 |
语种 | 中文 |
公开日期 | 2012-08-15 |
分类号 | O434.19 |
内容类型 | 学位论文 |
源URL | [http://ir.sinap.ac.cn/handle/331007/9683] ![]() |
专题 | 上海应用物理研究所_中科院上海应用物理研究所2011-2017年 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 于海生. 上海光源BL14W1线站掠入射XAFS方法的实现及应用研究[D]. 中国科学院研究生院. 2011. |
个性服务 |
查看访问统计 |
相关权益政策 |
暂无数据 |
收藏/分享 |
除非特别说明,本系统中所有内容都受版权保护,并保留所有权利。
修改评论