制备工艺对ZnO薄膜的结构与光学性质的影响 | |
赵银平[1,2]; 丁瑞钦[2]; 朱慧群[2]; 胡怡[3]; 王忆[2]; 汪河洲[1] | |
2007 | |
卷号 | 26期号:2页码:20 |
关键词 | 半导体技术 射频磁控反应溅射 ZnO外延薄膜 光致发光 |
URL标识 | 查看原文 |
内容类型 | 期刊论文 |
URI标识 | http://www.corc.org.cn/handle/1471x/4755733 |
专题 | 暨南大学 |
作者单位 | 1.[1]中山大学光电材料与技术国家重点实验室,广东广州510275 2.[2]五邑大学薄膜与纳米材料研究所,广东江门529020 3.[3]暨南大学化学系,广东广州510632 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 赵银平[1,2],丁瑞钦[2],朱慧群[2],等. 制备工艺对ZnO薄膜的结构与光学性质的影响[J],2007,26(2):20. |
APA | 赵银平[1,2],丁瑞钦[2],朱慧群[2],胡怡[3],王忆[2],&汪河洲[1].(2007).制备工艺对ZnO薄膜的结构与光学性质的影响.,26(2),20. |
MLA | 赵银平[1,2],et al."制备工艺对ZnO薄膜的结构与光学性质的影响".26.2(2007):20. |
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