CORC  > 暨南大学
卷绕式磁控溅射法沉积PI-Cu膜
吉锐[1]; 唐振方[1]
会议日期2009-12-05
会议地点广东广州
关键词Cu薄膜 卷绕磁控溅射 择优取向 电阻率
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内容类型会议论文
URI标识http://www.corc.org.cn/handle/1471x/4627198
专题暨南大学
作者单位[1]暨南大学物理系
推荐引用方式
GB/T 7714
吉锐[1],唐振方[1]. 卷绕式磁控溅射法沉积PI-Cu膜[C]. 见:. 广东广州. 2009-12-05.
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